経済・産業トレンド

ジェトロ、広島で日オランダ半導体ジョイントワークショップを開催

ジェトロと中国経済産業局は2026年10月13～16日に「Brabant-Hiroshima Innovation Bridge」を実施し、オランダ・ブラバント地域の関係者7社・機関を広島に招いた。10月15日には日蘭半導体ジョイントワークショップを開催し、約100人が参加した。講演やトークセッションを通じ、双方の半導体分野での連携可能性について意見が交わされた。

最終確認日: 2026-11-04

この発表の要点

2026年10月13～16日に「Brabant-Hiroshima Innovation Bridge」が実施され、オランダ・ブラバント地域の7社・機関が広島に招かれた
10月15日の日蘭半導体ジョイントワークショップには関係者を含め約100人が参加した
双方から連携の可能性について前向きなコメントが得られたと発表されている

企業・自治体への影響

半導体関連の製造、素材、装置、研究開発に関わる企業や、海外連携・投資を担当する部門に関係する可能性があります。広島県など地域の自治体にとっては、海外投資向け補助支援策の紹介が行われた点で関係があります。ただし本件は交流イベントの報告であり、直接的な規制や義務は示されていません。

対応すべきこと

ジェトロ公式サイトで発表原文と関連記事（2026年11月2日記事）を確認する
半導体関連の事業を持つ場合、オランダ側の紹介機関や企業との連携可能性を海外事業部門と共有する
広島県の海外投資向け補助支援策について、対象要件を公式出典で確認する

対象部門： 経営者広報

対応期限：要確認

基本データ

企業・団体	ジェトロ
業界	電機・電子
発表日	2026-11-04
分類	経済・産業トレンド
地域	広島県

発表された内容

2026年11月04日

ジェトロと中国経済産業局は、10月13～16日にかけて「Brabant-Hiroshima Innovation Bridge」を実施し、オランダ・ブラバント地域の半導体関連企業・大学・研究機関・政府関係者など、7社・機関を広島に招聘（しょうへい）した（2026年11月2日記事参照）。開催期間中の10月15日には日本とオランダ・ブラバント地域の半導体関係者が一堂に会する「日蘭半導体ジョイントワークショップ」を開催し、関係者を含め約100人が参加した。

日本による講演セッションでは、中国経済産業局から17の戦略分野を中心に政府主導の官民投資を促進していることや産学官連携に関する取り組み、広島県から半導体産業を含む海外投資に対する補助支援策、広島大学から半導体産業技術研究所（RISE）やせとうち半導体コンソーシアムに関する取り組みなどが紹介された。また、マイクロンメモリジャパン、エーエスエムエル（ASML）・ジャパン、三井化学、ローツェ、日立ハイテク、出雲村田製作所からは、半導体分野に関する各社の取り組みについて説明がなされた。

オランダ側からは、ブラバント開発公社（BOM）がブラバント地域の半導体エコシステムを、オランダ経済省企業誘致局（NFIA）がオランダ全域の半導体エコシステムを紹介した。そのほか、オランダのアカデミアセクターとしてアイントホーフェン工科大学およびフォトニック・インテグレーション・テクノロジー・センター（PITC）が、産学官連携機関および半導体研究開発拠点としてチップ・インテグレーション・テクノロジー・センター（CITC）およびTNOオランダ応用科学研究機構が、欧州最先端のフォトニクスエコシステム機関としてフォトンデルタ（PhotonDelta）が、それぞれの活動内容を説明した。企業側からは、スー・テクノロジー（Sioux Technologies：ASML向け装置開発に関わるハイテクエンジニアリング企業）、フォノンテック（FononTech：研究機関発のスタートアップ）が登壇した。

トークセッションでは、「地域の役割と海外との連携」「Bridging Research and Industry : Unlocking Japan-Netherlands Innovation Opportunities（研究と産業の架け橋：日オランダイノベーションの機会を引き出す）」「Innovation from Brabant(ブラバント地域からのイノベーション)」と、3つのセッションが行われ、日本とオランダの関係者が登壇した。

今回、日本とオランダの半導体関係者が広島に集い、初となる大規模なジョイントワークショップの開催となった。半導体の素材やロボティクスに強い日本とフォトニクス分野で世界最先端の技術を有するオランダとの連携可能性について、双方から多くの前向きなコメントが聞かれた。今後、半導体分野での日本とオランダのさらなる協業に期待が高まる。

（左）ブラバント開発公社による講演の様子、（右）トークセッションの様子（ともにジェトロ撮影）

（水谷俊博）

（日本、オランダ）

ビジネス短信 7804daa142b27342

時系列

2026-10-13　ジェトロと中国経済産業局が「Brabant-Hiroshima Innovation Bridge」を実施（期間は2026年10月13～16日）
2026-10-15　「日蘭半導体ジョイントワークショップ」を広島で開催し、関係者を含め約100人が参加
2026-11-04　ジェトロが開催結果を発表

主な数値

招聘数	7社・機関
開催期間	10月13～16日期間
ワークショップ参加者数	100人（約）
中国側の政府主導投資の対象分野数	17の戦略分野

この事例から確認すべきポイント

本件は、ジェトロと中国経済産業局が主催した日本・オランダ間の半導体分野の交流イベントの開催結果を伝える発表である。講演では、広島県による海外投資向けの補助支援策や、広島大学の半導体産業技術研究所（RISE）およびせとうち半導体コンソーシアムの取り組みが紹介された。企業側ではマイクロンメモリジャパン、ASMLジャパン、三井化学、ローツェ、日立ハイテク、出雲村田製作所が取り組みを説明した。発表では双方から連携の可能性に関する前向きなコメントが得られたとされるが、具体的な協業案件や契約内容は本文からは確認できなかった。詳細は公式出典をご確認ください。自社が半導体分野で海外連携や補助支援制度を検討する場合の参考情報として位置づけられる。

公式出典

ジェトロ

更新履歴

公開日: 2026-11-04 ／最終確認: 2026-11-04

執筆・確認主体

この記事は、上記の公式出典を一次情報として PRaze編集部（株式会社スキルマーク）が構造化・要約したものです。要約と分類の生成にはAIを使用しています。

数値・日付・組織名・金額は公式発表の原文から転記しており、原文に記載のない事項を補って書くことはしていません。内容の正確性は公式出典をご確認ください。

編集・公開: PRaze編集部（株式会社スキルマーク）／出典確認日: 2026-11-04