中国国務院、知的財産権分野の5カ年規画を発表、4重点任務、12事業を推進
最終確認日: 2026-08-13
この発表の要点
- 中国国務院が2026年から2030年までの知的財産権保護・運用に関する「第15次5カ年規画」を発表した。
- 同規画は、知的財産権強国建設に向けた2030年および2035年の目標を設定している。
- 知的財産権の保護環境最適化、運用効能向上、ガバナンス体制整備、国際協力深化の4つの重点任務と12の特別事業プロジェクトを推進する。
企業・自治体への影響
中国で事業を展開する企業や、中国との取引がある企業は、知的財産権戦略の見直しが求められます。特に、戦略的新興産業やAI関連技術を持つ企業は、保護強化や制度変更への対応が必要となるでしょう。
対応すべきこと
- 公式出典(添付資料等)を確認し、自社の事業や技術が規画の対象となるか詳細を把握する。
- 知的財産権関連部門や法務部門と連携し、中国における知的財産権戦略への影響を評価する。
- 特にAI関連技術や戦略的新興産業に関わる企業は、関連する特別事業プロジェクトの動向を継続的に監視する。
- 中国の知的財産権制度の改正や運用強化に対応できるよう、社内体制や手続きの見直しを検討する。
対象部門: 経営者 法務 情シス 広報
対応期限:要確認
基本データ
| 企業・団体 | 国務院 |
|---|---|
| 発表日 | 2026-07-31 |
| 分類 | 経済・産業トレンド |
発表された内容
2026年08月13日
添付資料(148 KB)
国務院は7月31日、「知的財産権保護・運用『第15次5カ年規画』」〔国発(2026)30号、以下、規画)を発表した。
同規画では、「第15次5カ年規画」期間(2026~2030年)における知的財産権の保護と運用にかかる予期性指標(添付資料表参照)、重点任務、特別事業プロジェクトが明確に定められた。また、2030年までに知的財産権強国建設で決定的な進展を実現させ、国際競争力をさらに高める方針が打ち出されたほか、2035年までに、知的財産権の総合競争力が世界トップレベルになり、中国の特色ある、世界水準の知的財産権強国を基本的に完成させるビジョンが示されている。
重点任務としては、知的財産権の保護環境の最適化、知的財産権の運用効能の向上、知的財産権ガバナンス体制の整備、対外開放を支える国際協力の深化を巡って次の4点を挙げた。
(1)法令制度と保護体系を拡充し、対外知的財産権保護を強化することにより、イノベーションを支える知的財産権保護環境を整備する。
(2)知的財産権の転化運用能力の強化、新質生産力(注)に資する知的財産権の供給の拡大、知的財産権サービス産業の発展の推進を通じて、経済の質の高い発展を促す知的財産権の運用効能を高める。
(3)知的財産権の管理水準を高め、公共サービスと社会共同ガバナンスを強化することにより、効率的なガバナンスを実現する知的財産権の管理体制を構築する。
(4)グローバル知的財産権ガバナンスへ積極的に参加し、国際交流協力を深化させることにより、ハイレベルな対外開放に適した知的財産権に関する国際協力体制を形成する。
また、重点任務の実施に合わせ、同規画には、戦略的新興産業の知的財産権保護事業、営業秘密保護事業、知的財産権と人工知能(AI)の相互活性化事業、知的財産権データの開発・活用事業、「一帯一路」知的財産権の質の高い協力事業など計12項目の特別事業プロジェクトが盛り込まれている。
具体的な取り組みとして、「戦略的新興産業の知的財産権保護事業」に関して、政策支援の拡大、自主的な知的財産権の創出・蓄積力の向上のほか、重点保護産業目録の整備および迅速な予備審査、権利確定などワンストップ保護サービスの提供が挙げられた。「知的財産権とAIの相互活性化事業」に関しては、特許出願におけるAIを活用した申告制度の検討、AI関連発明の特許出願ガイドラインの改正、版権制度など知的財産権制度の整備、AI活用による特許商標審査、侵害リスク識別、行政執行の高度化、高等教育機関や研究機関の高付加価値特許と企業とのマッチングの実施、「AIプラス」(2025年9月3日記事参照)知的財産権サービスの活用場面の拡大などが含まれた。
(注)イノベーション主導で、従来型の成長モデル・アプローチから脱却し、ハイテク、高効率、高品質を特徴とする先進的な生産力を指す。
(趙薇)
(中国)
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中国国務院、知的財産権分野の5カ年規画を発表、4重点任務、12事業を推進
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出典: www.jetro.go.jp
URL: https://www.jetro.go.jp/biznews/2026/08/c4cfee6e10537e55.html
時系列
- 2026-07-31 国務院が「知的財産権保護・運用『第15次5カ年規画』」を発表
主な数値
| 規画期間 | 2026~2030年 |
|---|---|
| 重点任務数 | 4点 |
| 特別事業プロジェクト数 | 12項目 |
この事例から確認すべきポイント
中国国務院が発表した「知的財産権保護・運用『第15次5カ年規画』」は、2035年までの長期的な知的財産権強国建設に向けた国家戦略であり、中国で事業を展開する企業や、中国との取引がある企業にとって極めて重要な政策文書です。本規画は、知的財産権の保護強化、運用効率の向上、ガバナンス体制の整備、国際協力の深化という4つの重点任務を掲げ、特に戦略的新興産業やAI分野における知的財産権の創出・保護・活用を強力に推進する方針を示しています。企業は、自社の知的財産権戦略がこの規画と整合しているかを確認し、特にAI関連技術や新興産業に関わる場合は、特許出願ガイドラインの改正やワンストップ保護サービスの提供といった具体的な取り組みの動向を注視する必要があります。現時点で取得できた本文からは、添付資料に記載されている予期性指標や各事業プロジェクトの詳細な実施計画は確認できませんでしたが、公式出典の添付資料を確認し、自社への具体的な影響を評価することが求められます。
公式出典
更新履歴
公開日: 2026-08-13 / 最終確認: 2026-08-13
執筆・確認主体
この記事は、上記の公式出典を一次情報として PRaze編集部(株式会社スキルマーク)が構造化・要約したものです。 要約と分類の生成にはAIを使用しています。
数値・日付・組織名・金額は公式発表の原文から転記しており、 原文に記載のない事項を補って書くことはしていません。 内容の正確性は公式出典をご確認ください。
編集・公開: PRaze編集部(株式会社スキルマーク) / 出典確認日: 2026-08-13
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